納米器件濺射儀

主要技術指標：樣品尺寸為4寸硅片濺射室極限真空優于1.210-6Pa，進樣室(loadlock)真空優于6.710-4Pa淀積薄膜厚度均勻性優于3%襯底可加熱，溫度最高可達800oC 功能/應用范...

復旦大學信息科學與工程學院

存儲薄膜濺射儀

　　主要技術指標：極限真空：成膜室1.210-6Pa(loadlock)準備室6.710-4Pa樣品尺寸：4寸(1片/次)可通3路氣體：Ar、N2、O2(50sccm)?？勺銎胀R射、共濺射和反應濺射，可對樣...

復旦大學信息科學與工程學院

磁控濺射真空鍍膜機

功能用途： 應用于塑料制品、陶瓷、樹脂、水晶玻璃制品等、工藝品、塑料手機殼、電子產品、建材等行業。 磁控濺射鍍膜機主要是使用直流(或中頻)磁控濺射，可...

河北科技大學

電子束蒸發系統

主要技術指標：電子槍功率3kW，本底真空10E-9Torr，6寸旋轉樣品托(可液氮冷卻)，坩堝5*2.24cc　　功能/應用范圍：蒸鍍各種金屬薄膜　　主要測試和研究領域：電子/信息技...

復旦大學分析測試中心